主要特点：

1、沉积速率快，温升小，能较好抑制打火及靶中毒现象；

2、溅射释放的高能量使膜层密度和附着力有显著提高；

3、触摸屏+PLC,可实现全自动控制，自动/手动随时切换；

4、工件架采用公、自转结构，可设置自动正反转，产品均匀**好。

5、可有效避免反油现象，抽气速率快，噪声小，耗能低。

6、可根据客户要求配多套靶源

基本配置：   

1、真空室立式单开门结构，304不锈钢制造，真空室内直径自Φ800mm-Φ1300mm；

2、真空系统由旋片泵、直联泵、罗茨泵和分子泵（或扩散泵）构成；

3、镀膜系统采用1-5台中频磁控溅射电源，配有1-5对非平衡磁控靶，并配有6-12个热阴极电弧；

4、脉冲偏压电源；

5、充气系统采用国产或进口气体质量流量计、气体流量控制（显示）仪；

6、电控系统设置电路过载、断水、断气声光报警装置；

7、控制系统（触摸屏+PLC）在自动运转时，实时显示详细参数，全自动控制整个生产过程，并自动存储工艺参数。